全抛釉瓷砖工艺上的本质？

　　全抛釉瓷砖工艺制作主要优点：全抛釉瓷砖坯体不用优质原料，表层只要有0.5-1mm左右的釉层就可以了。而抛光砖也要2-3mm的精料；抛釉砖图案仿真度很容易做好，成本也低。全抛釉瓷砖制作更加环保，由于釉层烧制速度较快，能耗较低，抛釉比抛光的能耗低而产量也较高。

　　全抛釉瓷砖工艺制作主要缺点：过去全抛釉瓷砖的工艺设备不是很成熟，在国内大批生产的还较少。这种产品在国际上已出现了多年，特别在西班牙、意大利等，但还没有大量应用，主要是由于技术障碍及之前没有太大的对比优势。特别在国内，生产抛光砖的好材料还不错，能源成本也不算高。国内的釉面工艺与抛釉设备难以克服全抛釉瓷砖大批量生产的技术难题，即全抛釉瓷砖釉面太厚则容易在烧制时产生大量气泡，使产品抛后防污能力差，失光；而釉层太簿，则釉面砖总有变形，抛光时易产生漏抛或局部露底现象。

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